光刻機是目前半導體芯片行業(yè)的核心設備，其技術(shù)含量、價(jià)值含量極高。光刻機設備涉及到系統集成、精密光學(xué)、精密運動(dòng)、精密物料傳輸、高精度微環(huán)境控制等多項先進(jìn)技術(shù)是半導體行業(yè)中技術(shù)含量最高的設備。

目前，世界上最先進(jìn)的光刻機是荷蘭ASML的EUV光刻機。

有些朋友會(huì )問(wèn)，UV紫外線(xiàn)與光刻機到底是什么關(guān)系，在芯片制造中為何要要用到紫外線(xiàn)？下面由紫外線(xiàn)手電筒制造廠(chǎng)家TANK007為你介紹。

1、半導體芯片光刻工藝原理

光刻的原理是在已經(jīng)切割好的晶圓（通常是多晶硅）上覆蓋一層具有高度光敏感性光刻膠，再用光線(xiàn)（一般是紫外光、深紫外光、極紫外光）透過(guò)掩模照射在晶圓表面，被紫外線(xiàn)照射到的光刻膠會(huì )發(fā)生反應。

此后用特定溶劑洗去被照射/未被照射的光刻膠，就實(shí)現了電路圖從掩模到晶片的轉移。

簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)，就用紫外線(xiàn)把多層電路圖雕刻在晶圓上，而在這過(guò)程中就必然要用到光刻機。目前滿(mǎn)足先進(jìn)制程的7nm/5nm的光刻機采用EUV光刻工藝，而只有ASML制造的光刻機才可滿(mǎn)足。

2、UV紫外線(xiàn)與光刻機

前面我們提到，紫外線(xiàn)負責把線(xiàn)路圖雕刻到晶圓表面，而紫外線(xiàn)光源是由激光器負責產(chǎn)生，紫外線(xiàn)光源對芯片制程工藝具有決定性影響。

伴隨半導體工業(yè)節點(diǎn)的不斷提升，光刻機使用的紫外線(xiàn)波長(cháng)從436nm、365nm的近紫外(NUV)激光提高到246nm、193nm(DUV)激光，DUV光刻機是目前大量應用的光刻機，波長(cháng)是193nm，光源是ArF（氟化氬）準分子激光器。

從7nm開(kāi)始Intel、三星和臺積電等晶圓代工企業(yè)開(kāi)始引入EUV光刻技術(shù)，而使用極紫外光（EUV）作為光源的光刻機就是EUV光刻機。

你可以這么理解，全球最大的晶圓代工廠(chǎng)臺積電也只有從ASML購買(mǎi)EUV光刻機才能在7nm/5nm制程工藝上完成晶圓的雕刻。

要想知道EUV到底是什么東西，簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)EUV是UV紫外線(xiàn)中波段處于（10nm~100nm）的短波紫外線(xiàn)

本質(zhì)上，EUV極紫外光跟UV紫外線(xiàn)和光刻機的關(guān)系是一致的。從7nm開(kāi)始Intel、三星和臺積電等晶圓代工企業(yè)開(kāi)始引入EUV（波長(cháng)10 ~ 15 nm，通常為13.5nm）光刻技術(shù)，而使用極紫外光（EUV）作為光源的光刻機就是EUV光刻機。

你可以這么理解，如果沒(méi)有EUV光刻機晶圓代工廠(chǎng)就無(wú)法生產(chǎn)先進(jìn)制程的芯片如7nm或5nm芯片。

TANK007探客手電集紫外線(xiàn)手電筒研發(fā)、生產(chǎn)、銷(xiāo)售為一體的手電筒廠(chǎng)家，專(zhuān)注于紫外線(xiàn)手電筒領(lǐng)域20余年，是紫外線(xiàn)手電筒行業(yè)領(lǐng)軍企業(yè)，并成為多家世界500強企業(yè)長(cháng)期合作伙伴，值得信賴(lài)！

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